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计算光刻与版图优化 简介
本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况, 涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势, 系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论, 论述了版图设计与制造工艺的关系, 以及版图设计对制造良率的影响, 讲述和讨论了版图设计与制造工艺协同优化的概念和方法论, 并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。并列题名： Computational lithography and layout optimization eng
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